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RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀

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RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀

  • 所屬分類:RLK900X射線能譜儀

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  • 發(fā)布日期:2019/03/04
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RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀


RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,是目前國(guó)際最先進(jìn)的新型XAFS/XES光譜儀。RLK900居于新原理和新結(jié)構(gòu);采用獨(dú)有的、zhuanli的SBCA晶體,實(shí)現(xiàn)X射線的單色掃描;采用小功率的X-Ray源,使研究試驗(yàn)室內(nèi)就能夠方便運(yùn)行。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,可以完成XAS(X-ray Absorbtion SpectroScopy)和XES(X-ray Emmision Spectroscopy)兩種光譜的研究,能夠獲得掃描范圍5keV-12keV,分辨率優(yōu)于1eV的譜線。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,將信號(hào)探測(cè)、掃描控制、數(shù)據(jù)顯示高度集成化,使用前只需簡(jiǎn)單的參數(shù)設(shè)置、校準(zhǔn)確認(rèn),即可方便進(jìn)行研究試驗(yàn)。

RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀,作為一種目前國(guó)際最新型的儀器,為各種材料研究分析拓展手段,用戶能夠在實(shí)驗(yàn)室就能隨時(shí)開(kāi)展研究,而不再受到條件限制??蓮V泛應(yīng)用于各種材料研究分析領(lǐng)域,包括納米材料、半導(dǎo)體材料、催化材料、生物材料、軍用特種材料、礦產(chǎn)分析等。將成為材料研究必選設(shè)備。

產(chǎn)品特點(diǎn)(Features)

新原理新構(gòu)造:居于新原理和新構(gòu)造的X-ray光譜儀;

高分辨率:    采用獨(dú)有的、zhuanli的SBCA晶體作為核心器件,實(shí)現(xiàn)X射線單色掃描,分辨率達(dá)到1eV;

高品質(zhì)能譜曲線:與同步輻射相當(dāng)品質(zhì)的能譜曲線;

試驗(yàn)室儀器:  在試驗(yàn)室就可完成XAFS/XES的研究,不再受到條件限制;

高集成性:    儀器集成探測(cè)、控制、分析,軟件運(yùn)行于Windows操作系統(tǒng);

應(yīng)用面廣:    納米材料、半導(dǎo)體材料、催化材料、生物材料、軍用特種材料、礦產(chǎn)分析等各種材料研

究分析領(lǐng)域

技術(shù)指標(biāo)(Specification)

型號(hào)Model

RLK900 高分辨率XAFS/XES光譜儀

原理Principle

SBCA晶體、Roland圓、X-ray單色掃描

能量范圍

Energy Range

5KeV-12KeV

能量分辨率

Energy Resolution

0.5-1.5eV

工作模式

Working Mode

XAS/XES

布拉格角范圍

Bragg Angle Range

65°-85°

X射線源

X-ray Tube

10W(Max)50KV@200uA(X 光點(diǎn)直徑~0.5mm)

光學(xué)系統(tǒng)

Optics System

SBCA單色分光、Roland圓Bragg掃描(Roland 直徑500mm)

探測(cè)器Detector

半導(dǎo)體電制冷SDD

通訊接口

Communication  interface

RS-232

工作電壓

Power Supply

220VAC

工作溫度

Temperature

-10℃  ~ +50

外形尺寸Dimension

1200(L)*1200(W)*1100(H)

重量Weight

350Kg

軟件Software

RLK900專用軟件(WindowsXP/Windows 7)

 

 




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關(guān)鍵詞:實(shí)驗(yàn)室X射線吸收譜儀,X射線吸收譜儀

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