設(shè)備介紹
RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，是目前國(guó)際最先進(jìn)的新型XAFS/XES光譜儀，儀器原理主要是將X光源、樣品、SBCA晶體和探測(cè)器置于羅蘭圓上，進(jìn)行能量掃描和數(shù)據(jù)收集完成XES或XAFS測(cè)量，并最終形成形成可供分析的X光吸收譜和發(fā)射譜線。該儀器可檢測(cè)原子的環(huán)境結(jié)構(gòu)和電子所處的能帶結(jié)構(gòu)及環(huán)境影響，在實(shí)驗(yàn)室即可獲得接近同步輻射試驗(yàn)品質(zhì)的譜線，我們的實(shí)驗(yàn)平臺(tái)和儀器將解決部分課題無法申請(qǐng)到同步輻射光源的難點(diǎn)痛點(diǎn)。
